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变革与趋向——20世纪70年代以来的设计展策展研究
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¥ 128.00
罗湖图书馆
此书还可采购10本,持证读者免费借回家
ISBN:
9787535692658
作 者:
纪玉洁
出 版 社 :
湖南美术出版社
出版日期:
2020-07-01
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作者简介
纪玉洁,中央美术学院设计学博士、中央美术学院美术馆设计部主任,设计总监,长期从事展览设计实践与设计展策展研究。
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内容介绍
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精彩书评
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精彩书摘
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目录
导论
思想实验
社会责任与道德意识
批判与思辨的锋芒
重构设计的智识系统
重建秩序
重塑概念
拓展边界
扩展的设计
感官维度的延展
设计收藏的拓展
技术的话语维度
技术升维
技术的再自然
超材料
思于未然
危机
预测未来
结语
参考文献
附录
致谢
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